发明专利:
[1]王立,王震东,陈鹏. 一种过渡金属硫属化合物二维材料图形化生长的方法[P]. CN105803421B,2020-03-20.
[2]罗岚,刘勇,王立,王雨,郭锐. 一种耐蚀性可调控的镁合金表面多级纳米涂层的制备方法[P]. CN107723680B,2019-10-29.
[3]刘虎,王立,章少华,何沅丹,何海洋,林凯茜. 一种白光LED封装结构及封装方法[P]. CN108767085B,2019-10-01.
[4]王立,郭守晖,范定环. 一种制备碳纳米管阵列-石墨烯混合结构的简易方法[P]. CN106086811B,2019-07-26.
[5]王立,朱怡远. 胶体量子点薄膜图案化方法[P]. CN109560206A,2019-04-02.
[6]王立,朱怡远. 胶体量子点改性方法[P]. CN109400641A,2019-03-01.
[7]王立,齐维靖,刘晓烁. 一种锂离子电池用的柔性无集流体薄膜极片制备方法[P]. CN109360939A,2019-02-19.
[8]刘虎,何海洋,朱怡远,王立. 卤化铅铯钙钛矿量子点胶体及量子点荧光粉制备方法[P]. CN109266343A,2019-01-25.
[9]彭洪,冯星灿,王立. 一种多晶氮化铟的制备方法[P]. CN109056070A,2018-12-21.
[10]刘虎,王立,章少华,何沅丹,何海洋,林凯茜. 一种白光LED封装结构及封装方法[P]. CN108767085A,2018-11-06.
[11]王立,王震东,王剑宇,张思鸿. 一种可连续进样生长过渡金属硫属化合物晶体的实验装置[P]. CN208008947U,2018-10-26.
[12]刘虎,王立,章少华,何沅丹,孙沁瑶,姚勇. 一种黄光LED封装结构及封装方法[P]. CN108548105A,2018-09-18.
[13]罗岚,刘勇,王立,王雨,郭锐. 一种耐蚀性可调控的镁合金表面多级纳米涂层的制备方法[P]. CN107723680A,2018-02-23.
[14]刘诗涛,王立. 一种铟镓氮薄膜太阳能电池[P]. CN206076259U,2017-04-05.
[15]刘诗涛,王立. 一种基于氧化锌作为电子输运层的铟镓氮薄膜太阳能电池[P]. CN106449851A,2017-02-22.
[16]刘虎,王立,饶郑刚,田婷芳,舒龙龙,章少华. 一种废旧LED照明灯泡回收方法[P]. CN106381390A,2017-02-08.
[17]王立,郭守晖,范定环. 一种制备碳纳米管阵列#石墨烯混合结构的简易方法[P]. CN106086811A,2016-11-09.
[18]王立,王震东,陈鹏. 一种过渡金属硫属化合物二维材料图形化生长的方法[P]. CN105803421A,2016-07-27.
[19]王立,蔡峰,刘世昌,易常瑞,王仲平. 一种基于摩擦发电的声电转换器件及其制作方法[P]. CN105208497A,2015-12-30.
[20]王立,蔡峰,易常瑞,刘世昌. 一种探测脉搏波和心尖搏动波形的器件及其制作方法[P]. CN104305970A,2015-01-28.
[21]方文卿,方恺齐,王立,邓坚贞,王小平. 一种用智能手机监测PM2.5的系统[P]. CN103868835A,2014-06-18.
[22]王立,江风益. 一种具有边缘隔离结构的硅衬底[P]. CN103746051A,2014-04-23.
[23]王立,王朝成. 一种制备单晶石墨烯的装置[P]. CN203187782U,2013-09-11.
[24]王立,王朝成. 一种大尺寸单晶石墨烯的制备方法[P]. CN103255474A,2013-08-21.
[25]王立,王仲平,欧阳洪萍,宋新,刘小青. 大面积金红石型二氧化钛(110)(1×1)表面的制备方法[P]. CN102534806A,2012-07-04.
[26]王立,张学富. 石墨烯基复合管及其制备工艺[P]. CN102432002A,2012-05-02.
[27]王立,陈秀,刘拉程,柳树毅. 具有规则形状的石墨烯单晶畴的制备方法[P]. CN102345168A,2012-02-08.
[28]王立,刘小青,张学富,欧阳洪萍,陈烽,孔惠慧. 单原子厚度纳米硅带的制备方法[P]. CN102219216A,2011-10-19.
[29]王立,杜鑫利,张学富. 多晶石墨烯薄膜制备工艺及透明电极和制备石墨烯基器件[P]. CN102181843A,2011-09-14.
[30]王立,杜鑫利,张学富,武煜宇. 一种利用聚甲基丙烯酸甲酯转移石墨烯的方法[P]. CN102173412A,2011-09-07.
[31]王立,张学富,欧阳洪萍,陈烽,孔惠慧,陈秀. 制备低缺陷大面积硅(100)- 2x1重构表面的方法[P]. CN102154709A,2011-08-17.
[32]江风益,方文卿,王立,莫春兰,刘和初,周毛兴. 在硅衬底上制备铟镓铝氮薄膜及发光器件的方法[P]. CN1953220,2007-04-25.
[33]江风益,邵碧琳,王立,方文卿. 在硅衬底上制备高质量发光半导体薄膜的方法[P]. CN1801500,2006-07-12.
[34]江风益,熊传兵,方文卿,王立. 含有金属铬基板的铟镓铝氮半导体发光元件及其制造方法[P]. CN1794476,2006-06-28.
[35]王立,江风益,周毛兴,方文卿. 含有金锗镍的欧姆电极、铟镓铝氮半导体发光元件及制造方法[P]. CN1794477,2006-06-28.
[36]江风益,王立,方文卿. 在硅衬底上制备铟镓铝氮薄膜的方法[P]. CN1770484,2006-05-10.
[37]王立,江风益,方文卿. 铟镓铝氮发光器件[P]. CN1770485,2006-05-10.
[38]江风益,王立,方文卿. 半导体发光器件及其制造方法[P]. CN1770486,2006-05-10.
[39]王立,方文卿,江风益. 在硅衬底上制备高质量铟镓铝氮材料的方法[P]. CN1734799,2006-02-15.
[40]江风益,王立,方文卿,周毛兴,刘和初. 具有内陷电极的半导体发光元件[P]. CN1719631,2006-01-11.
[41]江风益,方文卿,王立,莫春兰,刘和初,周毛兴. 在硅衬底上制备铟镓铝氮薄膜及发光器件的方法[P]. CN1697205,2005-11-16.
[42]江风益,王立,熊传兵,方文卿,刘和初,周毛兴. 具有上下电极结构的铟镓铝氮发光器件及其制造方法[P]. CN1694271,2005-11-09.
[43]江风益,蒲勇,王立,方文卿. 用于化合物半导体材料生长的喷头及原料输入方法[P]. CN1664165,2005-09-07.
论文专著:
在 Journal of the AmericanChemical Society, Nano Letters, Applied Physics Letters,Journal of Physical Chemistry B, Physical Review B,Surface Science等国际著名SCI检索期刊上共发表论文58余篇。
出版专著:
资料更新中……
发表英文论文:
1. Chiral Recognition of Zinc Phthalocyanine on Cu(100) Surface Applied Physics Letters 100, 081602 (2012) Feng Chen, Xiu Chen, Lacheng Liu, Xin Song, Shuyi Liu, Juan Liu, Hongping Ouyang, Yingxiang Cai, Haibing Pan, Junfa Zhu, Li Wang*
2.Ag-induced Si(100) reconstruction:Si(100)-( )R45o-Ag Physical Review B 84, 153411 (2011) Xuefu Zhang, Yingxiang Cai, Feng Chen, Huihui Kong, Hongping OuYang, Shuyi Liu, Xiaoqing Liu, Li Wang*
3.Ultrahin monolayer of rubrene on Au(111) induced by charge transfer Surface and Interface Analysis 43, 1494 (2011) Xiaoqing Liu, Huihui Kong, Xin Song, Lei Liu, Li Wang*
4.Adsorption geometry of individual fullerene on Si surface at room-temperature Applied Physics Letters 97, 253106 (2010) (also highlighted in Virtual Journal of Nanoscale Science and Technology, January 3, 2011, Vol. 23, Issue 1, AIP research highlight Xinli Du, Feng Chen, Xiu Chen, Xianxin Wu, Yingxiang Cai, Xiaoqing Liu, Li Wang*
5.Chiral supramolecular self-assembly of rubrene Physical Chemistry Chemical Physics 12, 14637 (2010) Li Wang*, Huihui Kong, Xing Song, Xiaoqing, Liu, Hongming Wang
6.Role of oxygen incorporation in electronic properties of rubrene films Applied Physics Letters 97, 032106 (2010) Xin Song, Li Wang*, Qitang Fan, Yuyu Wu, Hongming Wang, Chunmei Liu, Nianhua Liu, Junfa Zhu, Dongchen Qi, Xingyu Gao, Andrew T. S. Wee
7.C60 submonolayers on the Si(111)-(7 x 7) surface: Does a mixture of physisorbed and chemisorbed states exist? Surface Science 603, 2896 (2009) S. Gangopadhyay, R. A. J. Woolley, R. Danza, M. A. Phillips, K. Schulte, L. Wang, V. R. Dhanak, P. J. Moriarty
8.Conformation-induced Self-assembly of Rubrenen on Au(111) Surface Applied Physics Letters 95, 093102 (2009) (Also highlighted in Virtual Journal of Nanoscale Science and Technology, September 14, 2009, Volume 20 , Issue 11) Li Wang, Huihui Kong, Xiu Chen, Xinlin Du, Feng Chen, Xiaoqing Liu, Hongming Wang
9.Charge transfer across the molecule/metal interface using the core hole clock technique (11.923) Surface Science Reports 63, 465 (2008) Li Wang, Wei Chen, Andrew TS Wee
10.Conformational degree and molecular orientation in rubrene film by in situ x-ray absorption spectroscopy Journal of Applied Physics 102, 063504 (2007) Li Wang, Shi Chen, Dongchen Qi, Xingyu Gao, Andrew TS Wee
11.Thickness-dependent energy level alignment of rubrene adsorbed on Au(111) Applied Physics Letters 90, 132121 (2007) Li Wang, Shi Chen, Lei Liu, Dongcheng Qi, Xingyu Gao, Andrew TS Wee
12.Molecular orientation and ordering during initial growth of copper phthalocyanine on Si(111) Journal of Physical Chemistry C 111, 3454 (2007) Li Wang, Dongchen Qi, Lei Liu, Shi Chen, Xingyu Gao, Andrew TS Wee
13.Shielding copper atoms by distortion of phthalocyanine rings on Si(111) (1.855) Surface Science 601, 4212 (2007) Li Wang, Shi Chen, Dongchen Qi, Xingyu Gao, Andrew TS Wee
14.Configuration-dependent interface charge transfer at a molecule-metal junction Journal of the American Chemical Society 128, 8003 (2006) L. Wang, L. Liu, W. Chen, YP Feng, ATS Wee
15.Resonant photoemission study of single-strand deoxyribonucleic acid Applied Physics Letters 89,013902 (2006) (also highlighted in Virtual Journal of Biological Physics Research, July 15 2006, Volume 12, Issue 2) L. Wang, KQ Zhang, XY Gao, XY Liu, ATS WEE
16.Ultrafast electron transfer from oligo(p-phenylene-ethynylene)thiol to gold Journal of Physical Chemistry B 110, 674 (2006) L Wang, W. Chen, C. Huang, ZK Kuan, ATS Wee
17.Morphology, Structure and Electronic Properties of Ce@C82 Films on Ag:Si(111)-( ) R30o Surface Science 564, 165 (2004) L. Wang, K. Schulte, RAJ Wooley, M. Kanai, TJS Dennis, J. Purton, S. Patel, S. Gorovikov, VR Dhanak, E. F. Smith, BCC Cowie and P. Moriarty
18.Thermally Activated Drift Mobility and Small Polaron Conduction in La0.75Sr0.11Ca0.14MnO3 Thin Films Investigated by the Traveling Wave Method Physical Review B 60, R 6976 (1999) (Rapid Communications ) Li Wang, Jiang Yin, Shaoyun Huang, Xinfan Huang, Jun Xu, Zhiguo Liu, Kunji Chen
19.Thermal Annealing of a-Si:H/a-SiNx:H Multilayers Applied Physics A 74, 783 (2002) Li Wang, Xinfan Huang, Zhongyuan Ma, Zhifeng Li, Jianjun Shi, Lin Zhang, Yun Bao, Xiaowei Wang, Wei Li, Jun Xu, Kunji Chen
20. Interface Confinement and Local Structure in nc-Si/a-SiNx:H Multilayers Journal of Physics: Condensed Matter 13, 9857 (2001) Li Wang, Xiaowei Wang, Xinfan Huang, Zhifeng Li, Zhongyuan Ma, Lin Zhang, Yun Bao, Jianjun Shi, Wei Li, Xiaohui Huang, Jun Xu, Kunji Chen
21.Surface Morphology and Structural Observation of Laser Interference Crystallizated a-Si:H/a-SiNx:H Multilayers Applied Surface Science 165, 85 (2000) Li Wang, Jian Li, Xinfan Huang, Qilinag Li, Xiaobao Yin, Wenbin Fan, Jun Xu, Wei Li, Zhifeng Li, Jianming Zhu, Mu Wang, Zhiguo Liu, Kunji Chen
22.Effect of functional group (fluorine) of aromatic thiols on electron transfer at the molecule-metal interface Journal of the American Chemical Society 128, 935 (2006) W. Chen, L. Wang, C. Huang, TT Lin, XY Gao, KP Loh, ZK Chen, ATS Wee
23.Probing the ultrafast electron transfer at the CuPc/Au(111) interface Applied Physics Letters 88, 184102 (2006) W. Chen, L. Wang, DC Qi, S. Chen, XY Gao, ATS Wee
24.Well shielded cerium atoms: electronic structures of adsorbed Ce@C82 on Si surfaces Physical Review B 77, 115437 (2005) K. Schulte, L. Wang, P. J. Moriarty, M. Kanai, TJS. Dennis, J. Purton and S. Patel K. Schulte, R. A. J. Woolley, L. Wang, P. J. Moriarty, P. R. Birkett, H. W. Kroto, B. C. C. Cowie
25.Drift Mobility of Semiconductive La0.5Sr0.5CoO3 Films Measured Using the Traveling Wave Method Applied Physics Letters 76, 580 (2000) J. Yin, L. Wang, J. M. Liu, K. J. Chen, Z. G. Liu, Q. Huang
26.Three-dimensional Ordered Nano-crystalline Si Made by Pulsed Laser Interference Crystallization of a-Si:H/a-SiNx:H Multilayers Journal of Non-crystalline Solids 266-269, 1015 (2000) Xinfan Huang, Li Wang, Jian Li, Wei Li, Ming Jiang, Jun Xu, Kunji Chen
27.Surface transfer doping of diamond (100) by tetrafluoro-tetracyanoquinodimethane Journal of the American Chemical Society 129, 8084 (2007) Dongchen Qi, Wei Chen, Xingyu Gao, Li Wang, Shi Chen, Kianping Loh, Andrew TS Wee
28.Tuning the hole injection barrier at the organic/metal interface with self-assembled functionalized aromatic thoil Journal of Physical Chemistry B 110, 26075 (2006) W. Chen, C. Huang, X. Gao, L. Wang, C. Zheng, D. Qi, S. Chen, H. Zhang, K. Loh, Z. Chen, A. Wee
29.Does an encapsulated atom 'feel' the effects of adsorption?: X-ray standing wave spectroscopy of Ce@C-82 on Ag(111) Nanoletters 4, 361 (2004) RAJ Woolley, KHG Schulte, L. Wang, PJ Moriarty, BCC Cowie, H. Shinohara, M. Kanai and TJS Dennis
30. Vacuum Electron Emission with Low Turn-on Electric Field from Hydrogenated Amorphous Carbon Thin Films Applied Physics Letter 79, 141 (2001) J. Xu, X.H. Huang, W. Li, L. Wang, X.F. Huang, K.J. Chen, J.B. Xu, I.H. Wilson
31.The dependence of the interface and shape on the constrained growth of nc-Si in a-SiNx/a-Si : H/a-SiNx Journal of Physics: Condensed Matter 14, 10083 (2002) L. Zhang, K. Chen, L. Wang, W. Li, J. Xu, X.F. Huang and K. J. Chen
32.Control of size and shape of nc-Si in a-SiN(x)/a-Si:H multilayers by laser induced constrained crystallization Applied Physics A-Materials Science & Processing 77, 485 (2003) L. Zhang, K. Chen, X. Huang, L. Wang, J. Xu, W. Li
发表中文期刊论文:
[1]刘诗涛,全知觉,王立.Carrier transport via V-shaped pits in InGaN/GaN MQW solar cells[J].Chinese Physics B,2017,26(03):562-567.
[2]刘诗涛,王立,伍菲菲,杨祺,何沅丹,张建立,全知觉,黄海宾.InGaN/GaN多量子阱LED载流子泄漏与温度关系研究[J].发光学报,2017,38(01):63-69.
[3]吕燕,吕文刚,王立.Structure Dependence of Excitonic Effects in Chiral Graphene Nanoribbons[J].Chinese Physics Letters,2017,34(01):107-111.
[4]曹峻松,郑畅达,全知觉,方芳,汤英文,王立.Si衬底上侧向外延生长GaN的研究[J].半导体光电,2015,36(04):569-573.
[5]江风益,刘军林,王立,熊传兵,方文卿,莫春兰,汤英文,王光绪,徐龙权,丁杰,王小兰,全知觉,张建立,张萌,潘拴,郑畅达.硅衬底高光效GaN基蓝色发光二极管[J].中国科学:物理学 力学 天文学,2015,45(06):19-36.
[6]武芹,全知觉,王立,刘文,张建立,江风益.Si(111)衬底切偏角对GaN基LED外延膜的影响[J].发光学报,2015,36(04):466-471.
[7]向菲菲,李超,王仲平,刘小青,吕燕,蒋丹凤,冷新丽,王立.温度诱导5,15-二苯基卟啉在银(110)表面上的自组装行为[J].南昌大学学报(理科版),2015,39(01):60-65.
[8]黄斌斌,熊传兵,张超宇,黄基锋,王光绪,汤英文,全知觉,徐龙权,张萌,王立,方文卿,刘军林,江风益.硅基板和铜基板垂直结构GaN基LED变温变电流发光性能的研究[J].物理学报,2014,63(21):388-394.
[9]王立,徐颜美,程竹君,熊招平,邓立彬.胆固醇代谢紊乱的遗传学研究进展[J].遗传,2014,36(09):857-863.
[10]王仲平,刘小青,宋新,凌杰,王立.高质量二氧化钛(110)-(1×1)表面的原位氧化法制备[J].南昌大学学报(理科版),2014,38(01):48-52+57.
[11]刘小青,陈烽,陈秀,刘拉程,王立.铜(110)c(2×1)-O模板调控的富勒烯纳米结构[J].南昌大学学报(理科版),2013,37(06):526-530.
[12]邓立彬,王立,熊招平,匡渤海,赵会安.遗传性心律失常猝死的分子解剖研究现状及展望[J].中国法医学杂志,2013,28(06):488-492.
[13]陈秀,陈烽,刘拉程,柳叔毅,刘小青,王立.四氰基乙烯分子在铜(110)c(2×1)-O表面上的吸附行为[J].南昌大学学报(理科版),2013,37(02):168-170+204.
[14]王光绪,熊传兵,王立,刘军林,江风益.Si衬底LED薄膜芯片Ni/Ag反射镜保护技术[J].半导体技术,2013,38(04):283-287.
[15]陶喜霞,王立,刘彦松,王光绪,江风益.p层厚度对Si基GaN垂直结构LED出光的影响[J].发光学报,2011,32(10):1069-1073.
[16]郑湘娟,胡六根,刘坚,王立,洪三国,余淑娴.以香豆素为配体的三元稀土配合物的合成及发光性能的研究[J].稀土,2011,32(05):44-48.
[17]邱虹,刘军林,王立,江风益.SiON钝化膜对硅衬底氮化镓绿光LED可靠性的影响[J].发光学报,2011,32(06):603-607.
[18]刘小青,王立.有机太阳能电池应用前景展望[J].能源研究与管理,2010(04):1-3+16.
[19]熊传兵,江风益,王立,方文卿,莫春兰.硅衬底垂直结构InGaAlN多量子阱发光二极管电致发光谱的干涉现象研究[J].物理学报,2008,57(12):7860-7864.
[20]刘玉娟,张斌,王坤,姚淑德,王立,江风益.用卢瑟福背散射/沟道技术研究MOVCD方法生长的ZnO薄膜的弹性应变[J].核技术,2007(08):657-659.
[21]李璠,李冬梅,戴江南,王立,蒲勇,方文卿,江风益.缓冲层厚度对Ti/Si模板上生长ZnO薄膜的影响[J].南昌大学学报(理科版),2007(02):181-185.
[22]肖祁陵,张萌,王立.高质量GaN/Al_2O_3薄膜的三晶高分辨X射线衍射研究[J].功能材料与器件学报,2006(06):524-528.
[23]程海英,王立,方文卿,蒲勇,郑畅达,戴江南,江风益.MOCVD方法在Cu/Si(111)基板上生长ZnO薄膜[J].南昌大学学报(理科版),2006(06):585-589.
[24]李璠,王立,戴江南,蒲勇,方文卿,江风益.常压化学气相沉积技术生长ZnO:H薄膜的光学性质[J].光学学报,2006(10):1585-1588.
[25]程海英,方文卿,莫春兰,刘和初,王立,江风益.δ掺杂对Si衬底GaN蓝光LED外延膜性能的影响研究[J].光学学报,2006(08):1269-1273.
[26]苏宏波,戴江南,蒲勇,王立,李方,文卿,江风益.生长温度对ZnO薄膜性能的影响[J].半导体学报,2006(07):1221-1224.
[27]苏宏波,戴江南,王立,蒲勇,方文卿,江风益.N_2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究[J].光学学报,2006(07):1112-1114.
[28]邵碧琳,江风益,戴江南,王立,方文卿,蒲勇.常压化学气相沉积法在Ag/Si(111)模板上生长ZnO薄膜及其性能研究[J].光学学报,2006(07):1115-1118.
[29]熊传兵,江风益,方文卿,王立,刘和初,莫春兰.硅基GaN蓝光LED外延材料转移前后性能[J].中国科学E辑:技术科学,2006(07):733-740.
[30]戴江南,王立,方文卿,蒲勇,李璠,郑畅达,刘卫华,江风益.常压MOCVD生长Ga_2O_3薄膜及其分析[J].发光学报,2006(03):417-420.
[31]王立,蒲勇,方文卿,莫春兰,熊传兵,江风益.表面覆盖退火对ZnO薄膜光学性质的影响(英文)[J].半导体学报,2006(03):409-412.
[32]郑畅达,王立,方文卿,蒲勇,戴江南,江风益.ZnO/AlN/Si(111)薄膜的外延生长和性能研究[J].光学学报,2006(03):463-466.
[33]刘卫华,李有群,方文卿,周毛兴,刘和初,莫春兰,王立,江风益.Si衬底GaN基LED理想因子的研究[J].功能材料与器件学报,2006(01):45-48.
[34]方芳,王立,方文卿,蒲勇,郑畅达,苏宏波,江风益.MOCVD方法在Ni/Si(111)模板上生长ZnO薄膜[J].南昌大学学报(理科版),2006(01):56-58+62.
[35]李冬梅,李璠,苏宏波,王立,戴江南,蒲勇,方文卿,江风益.MOCVD方法在Ti/Si(111)模板上生长ZnO薄膜的研究[J].人工晶体学报,2006(01):63-65+70.
[36]戴江南,王立,方文卿,蒲勇,莫春兰,熊传兵,郑畅达,刘卫华,江风益.常压MOCVD生长ZnO/GaN/Al_2O_3薄膜及其性能[J].发光学报,2005(06):772-776+841.
[37]陈玉凤,温战华,王立,戴江南,方文卿,江风益.退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响[J].发光学报,2005(05):59-64.
[38]莫春兰,方文卿,王立,刘和初,周毛兴,江风益.硅衬底GaN基LED的研究进展[J].液晶与显示,2005(05):66-73.
[39]郑畅达,方文卿,王立,莫春兰,蒲勇,戴江南,刘卫华,江风益.ZnO外延膜与蓝宝石衬底的取向偏差及其弯曲变形[J].发光学报,2005(03):385-390.
[40]王立,方文卿,蒲勇,郑畅达,戴江南,莫春兰,江风益.色散对GaN和ZnO的XRD摇摆曲线的影响[J].半导体学报,2005(05):917-921.
[41]温战华,王立,方文卿,蒲勇,罗小平,郑畅达,戴江南,江风益.退火温度对ZnO薄膜结构和发光性能的影响[J].半导体学报,2005(03):498-501.
[42]周鹏,王立,方文卿,蒲勇,戴江南,江风益.常压MOCVD生长的ZnO薄膜的电学性能[J].半导体学报,2005(03):502-507.
[43]戴江南,王立,方文卿,蒲勇,江风益.ZnO/GaN/Al_2O_3的X射线双晶衍射研究[J].功能材料与器件学报,2004(04):427-431.
[44]熊传兵,方文卿,蒲勇,戴江南,王立,莫春兰,江风益.衬底温度对常压MOCVD生长的ZnO单晶膜的性能影响[J].半导体学报,2004(12):1628-1633.
[45]王立,莫春兰,熊传兵,蒲勇,陈玉凤,彭绍琴,江风益.常压MOCVD生长ZnO薄膜及其性质[J].发光学报,2004(04):393-395+473.
[46]李述体,江风益,范广涵,王立,莫春兰,方文卿.In_xGa_(1-x)N薄膜的弯曲因子及斯托克斯移动研究[J].光学学报,2004(06):751-755.
[47]李述体,江风益,范广涵,王立,莫春兰,方文卿.未掺杂GaN外延膜的结晶特性与蓝带发光关系的研究[J].量子电子学报,2004(03):366-370.
[48]李述体,江风益,范广涵,王立,莫春兰,方文卿.MOCVD生长GaN的表面形貌及缺陷研究[J].华南师范大学学报(自然科学版),2004(02):63-66.
[49]管志斌,王立,江风益,叶建青.两步镀膜Ti/Al/Ti/Au的n型GaN欧姆接触研究[J].功能材料与器件学报,2003(03):347-350.
[50]万凌云 ,莫春兰 ,彭学新 ,熊传兵 ,王立 ,江风益.MOCVD生长的GaN单晶膜透射光谱研究[J].发光学报,2002(04):352-356.
[51]莫春兰,李鹏,王立,熊传兵,彭学新,辛勇,姚冬敏,李述体,江风益.气流混合对生长GaN∶Si膜性能影响的研究[J].光学学报,2002(02):181-185.
[52]江风益,李述体,王立,彭学新,熊传兵.金属有机化学汽相沉积生长InGaN薄膜的研究[J].光学学报,2001(12):1463-1466.
[53]王立,李述体,江风益,余淑娴.GaN基发光材料[J].化学教育,2001(10):3-6.
[54]王立,李述体,彭学新,熊传兵,李鹏,江凤益.有机源载气对MOCVD生长InGaN薄膜的影响研究[J].发光学报,2001(03):213-217.
[55]江风益,姚冬敏,莫春兰,王立,李鹏,熊传兵,彭学新.化学计量比的偏离对GaN的结晶品质及光电性能的影响[J].半导体学报,2001(06):746-750.
[56]李述体,江风益,彭学新,王立,熊传兵,李鹏,莫春兰.MOCVD生长的InGaN薄膜的离子束背散射沟道及其光致发光[J].半导体学报,2001(05):604-608.
[57]莫春兰,彭学新,熊传兵,王立,李鹏,姚冬敏,辛勇,江凤益.使用TEGa和TMGa为镓源MOCVD生长GaN的研究[J].发光学报,2001(01):75-79.
[58]熊传兵,姚冬敏,彭学新,王立,江风益.GaN中一种新受主的发光性能研究[J].南昌大学学报(工科版),2001(01):5-8.
[59]江风益,熊传兵,彭学新,王立,李述体,姚冬敏,莫春兰,李鹏,周毛兴,周力,吴蔚登,刘和初.新型紫外光源研制成功[J].材料导报,2001(02):30-31.
[60]李述体,莫春兰,李鹏,王立,熊传兵,彭学新,江风益.掺Si对MOCVD生长的GaN单晶膜的黄带发射及生长速率的影响[J].功能材料与器件学报,2000(04):385-387.
[61]姚冬敏,王立,熊传兵,彭学新,江风益.GaN的补偿度与离子束沟道最小产额比的关系的研究[J].发光学报,2000(02):109-114.
[62]江风益,李述体,王立,熊传兵,彭学新,辛勇,姚冬敏.MOCVD生长GaN:Si单晶膜的研究[J].发光学报,2000(02):120-124.
[63]姚冬敏,辛勇,王立,李述体,熊传兵,彭学新,刘念华,江风益.GaN的RBS/沟道、X射线双晶衍射和光致发光谱[J].半导体学报,2000(05):437-440.
[64]李述体,王立,彭学新,熊传兵,姚冬敏,辛勇,江风益.MOCVD生长P型GaN的掺Mg量的研究[J].半导体学报,2000(04):365-368.
[65]李述体,王立,辛勇,彭学新,熊传兵,姚冬敏,江风益.MOCVD生长的GaN单晶膜的蓝带发光研究[J].发光学报,2000(01):29-32.
[66]辛勇,熊传兵,彭学新,姚冬敏,李述体,江风益.MOCVD生长的未掺杂GaN的结晶特性与补偿度关系的研究[J].发光学报,2000(01):33-37.
发表中文会议论文:
[1]王立; 向菲菲; 冷新丽; 王仲平; 刘小青. 表面辅助的环化反应形成的超分子结构[C]. 中国化学会.中国化学会第30届学术年会摘要集-第一分会:表面物理化学.中国化学会:中国化学会,2016:139.
[2]向菲菲;李超;王仲平;刘小青;蒋丹凤;冷新丽;王立. 扫描隧道显微镜研究在金(111)表面上铜诱导的卟啉金属化过程[C]. 中国化学会.中国化学会第29届学术年会摘要集——第01分会:表面物理化学.中国化学会:中国化学会,2014:129.
[3]李超;向菲菲;王仲平;刘小青;蒋丹凤;王立. 通过扫描隧道显微镜对单个二氯酞菁锡分子在铜(100)表面的室温操纵[C]. 中国化学会.中国化学会第29届学术年会摘要集——第01分会:表面物理化学.中国化学会:中国化学会,2014:130.
[4]王立;莫春兰;熊传兵;汤英文;刘军林;方文卿;王小兰;刘卫华;周印华;江风益. Si衬底InGaN大功率LED芯片制备[C]. 中国光学光电子行业协会光电器件分会.第十二届全国LED产业研讨与学术会议论文集.中国光学光电子行业协会光电器件分会:《半导体技术》编辑部,2010:49-51+77.