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专家信息 科学研究 论文专著

专家信息:


刘忠立, 1940年生,武汉市人,1964年毕业于清华大学无线电电子学系半导体材料及器件专业。历任中国科学院半导体研究所微电子研究及发展中心主任、研究员、博士生导师、博士后合作导师、所学术委员会副主任、学位委员会委员、国家传感技术重点实验室副主任,创新重大项目“特种半导体器件及电路”负责人等。现任中国科学院微电子研究所特聘研究员,传感技术国家重点实验室学术委员会委员、北京市传感技术实验室学术委员会委员、中国电子学会核辐射电磁脉冲专委会委员、中国国际工程咨询公司项目评估专家等职,微电子学杂志编委会委员,科学出版社“半导体科学与技术丛书” 编委会委员。

已在国内外重要刊物上发表论文120余篇,撰写专著4本,译著2本,拥有国家发明专利8项,指导已毕业的博士生12名,博士后1名,指导已毕业的硕士生12名。

教育及工作经历:

1964年毕业于清华大学半导材料及器件专业。

1964-2010年在中科院半导体研究所工作,2011年起被中科院微电子研究所 聘为教授继续工作。

1980-1982年曾作为访问学者在联邦德国多特蒙德大学从事新CMOS器件研究。

1990-1991年在联邦德国HMI研究任客座教授所事MOS器件辐射加固物理研究。

学术兼职:

1、传感技术国家重点实验室学术委员会委员。

2、北京市传感技术国家重点实验室学术委员会委员。

3、中国电子学会核辐射电磁脉冲专委会专家委员。

4、中科院军工项目监理部监理。

5、“微电子学 ”杂志编委会委员。

6、科学出版社半导体技术书籍编委会委员。

6、中国国际工程咨询公司项目评估专家。

7、中电集团SOICMOS技术研发中心专家委员会专家。

科学研究:


研究方向:

主要从事从事半导体器件、电路、微传感器的设计、制造及辐射加固研究,近年来重点研究抗辐射SOICMOS SRAM、抗辐射SOICMOS FPGA及宽带隙半导体SiC 功率器件。

承担的科研项目情况:

长期从事辐射加固集成电路、微传感器及半导体功率器件研究,是我国最早研制成功MOSFET及JFET器件的主要研究人员之一。20世纪60年代后期至70年代中期,在高质量SiO2 生长、检测以及MOS器件稳定性和可靠性方面,做出了很多有意义的开拓性研究成果,1974年负责研制成功CMOS指针式电子手表电路,荣获北京市科技二等奖。1980-1982年,作为访问学者在德国多特蒙德大学电子系从事新CMOS器件研究,首创性地提出并负责研制成功离子注入氮形成隐埋Si3N4的CMOS/SOI器件,得到国际同行的认可。1990-1991年,在德国HMI核研究所任客座教授从事MOS器件辐射物理研究,取得有意义的成果。1982年-1989年,负责研制成功“抗辐射CMOS/SOS集成电路”及“长寿命卫星抗辐射集成电路”,电路的抗辐射指标达到国际上相应电路的最好水平,分别获1987年及1991年中科院科技进步二等奖;1992年获国防科工委光华基金二等奖;1993年获国家政府特殊津贴及中科院优秀教师称号; 1995负责研制成功重点工程CMOS/SOS抗辐射CMOS/SOS集成电路,获中科院科技进步三等奖。“八五” 、“九五”及“十五”期间,负责多项国家重大研究课题,均已通过验收,其中同中科院微电子所合作完成的”64K抗辐射CMOS/SOI SRAM”院重点创新项目,同中电集团58所合作完成的十五预研项目”128K抗辐射CMOS/SOI SRAM”,开拓了我国抗辐射CMOS/SOI辐射加固集成电路的研究领域。此外,“九五”至“十五”期间还负责研制成功高反压SiC二极管、SiC肖特基二极管、SiC MOS管等国内一流的研究成果,十一五责研制成功5万门抗辐射CMOS/SOI FPGA电路已通过验收,辐射指标达国际先进水平。

科研成果:

1、1974年负责研制成功我国第一个CMOS指针式电子手表电路,获北京市科技二等奖。

2、1980年提出并研制成功的离子注入氮形成隐埋的Si3N4层不用处延硅的CMOS/SOI器件是国际上开创性的工作。

3、负责的“抗辐射CMOS/SOS集成电路”及“长寿命卫星用抗辐射集成电路”研究项目分别获1987年及1991年中科院科技进步二等奖。

4、负责的国防重点工程抗辐射加固CMOS/SOS集成电路1995年获中科院科技进步三等奖。

发明专利:

1、集成电路的保护结构, 刘忠立,刘荣环, 和致经, 中国科学院半导体研究所, 1990-01-31。

2、一种功率MOSFET驱动电路, 高峰, 李春寄,刘忠立,于芳 ,中国科学院半导体研究所, 2007-10-17。

3、一种幅度调制隔离反馈控制电路,高峰, 李春寄, 刘忠立,于芳,中国科学院半导体研究所 ,2007-10-17。

4 、一种可重构的乘法器, 余洪敏, 陈陵都, 刘忠立,中国科学院半导体研究所, 2010-01-13。

5、针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法, 张琨,周华兵, 陈陵都, 刘忠立,中国科学院半导体研究所, 2010-02-24。

6、全集成高线性三角波发生器, 李霄鹍, 石寅, 刘忠立, 中国科学院半导体研究所 ,2006-06-21。

7、形成于PD SOI 衬底上的静态随机存储器及其制作方法,赵凯, 刘忠立, 姜凡, 中国科学院半导体研究所, 2007-07-04。

8、改进的部分耗尽绝缘体上硅静态随机存储器存储单元, 赵凯, 刘忠立, 于芳, 中国科学院半导体研究所, 2009-05-27 。

论文专著:


已在国内外主要刊物上发表了90余篇论文,著有30万字专著《CMOS集成电路原理、制造及应用》一本。

出版专著:

1. 《CMOS集成电路原理制造及应用》,刘忠立,电子工业出版社,1990年。

2. 《研究生专业参考教程第一卷》,本书共六章,刘忠立著第六章:“微电子学中的半导体器件”,1995年,中科院半导体所内部发行。

3. 《电子器件抗辐射加固技术》,本书共九章,刘忠立著第七章:“CMOS/SOS 及 CMOS/SOI 集成电路的辐射效应及加固技术”,装备部出版, 2001年。

4. 《特高频射频识别技术及应用》,李全圣,刘忠立,吴里江,国防工业出版社,2001年。

出版译著:

1. 《半导体辐射探测器》,刘忠立译,国防工业出版社, 2004年。

2. 《先进半导体材料及器件的辐射效应》,刘忠立译,国防工业出版社, 2008年。

发表论文:

1. 刘忠立,论N沟道增强型MOS晶体管,半导体通讯,1973,No.3, pp1-7.

2. 刘忠立,用于钝化钠离子的掺HCL氧化方法,全国半导体表面钝化会议,1975,pp126-130.

3. 刘忠立,P沟Si栅N沟Al栅CMOS手表电路,半导体通讯,1976, No.3, pp1-10.

4. 刘忠立,一种简易的监控Si-SiO2界面质量的水银探针,物理学报,1977, Vol.26, No.3, pp281-284.

5. 刘忠立,用于MOS器件阈值电压设计的诺摸图,无线电技术,1977, pp44-45.

6. Liu Zhongli, et al, CMOS Devices Buried Silicon Nitride Formed by Nitrogen Implantation, Proceeding of 12th ESSDERC, Sept.1982, pp172.

7. G.Zimmer, Liu Zhongli, et al, Buried Silicon-Nitride Layers Formed by Nitrogen-Ion Implantation and High-Temperature Annealing, Ion Implantation Equipment and Technology (H.Ryssel and H.Glawishs), 1983, pp426-432.

8. Zimmer G, Neubert E, Zetzmann, W, Liu, Z, CMOS-DEVICES ISOLATED BY ION-IMPLANTED BURIED SILICON NITRIDE, Technical Digest - International Electron Devices Meeting, 1982, pp 789-790.

9. G.Zimmer, Liu Zhongli, et al, CMOS Technologie auf Vergrabennen Ziliziumnitrid, MTG-Fachtagung Grossintegration, 1982, pp130-133.

10. 刘忠立等,离子注入氮化硅隔离的CMOS器件,半导体学报,1983, Vol.4,No.6,pp601-605.

11. 刘忠立,N阱全离子注入硅栅CMOS工艺中短和窄沟MOS晶体管的某些实验特性,第三届全国半导体集成电路和硅材料学术会议论文集,1983, pp282-283.

12. Liu Zhongli, et al, High Performance Radiation Tolerant CMOS/SOS ICs, Institute of Semiconductors, Academy Sinica,Research Progress Report, 1985-1986, Vol.5, pp38-40.

13. 刘忠立等, SOS/CMOS集成电路的研制及其在存储电路中的应用展望,第五届信息存储技术学会论文集, 1986.

14. 刘忠立等,加固至抗γ总剂量达107 Rad(Si)的SOS/CMOS ICs,抗核加固,1987, Vol.4, No.1.

15. 刘忠立等,高水平抗辐射SOS/CMOS集成电路,第五届全国半导体集成电路和硅材料学术会议论文集,pp139-141.

16. 刘忠立等,CMOS/SOS集成电路输入保护电路设计,“抗核辐射电子学会论文集”,1987.

17. Liu Zhongli, et al, An Excellent High Voltage NMOS/SOS Driver, the Proceeding of the Second International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology, Oct. 1989, pp 449-451.

18. 刘忠立等,一种优良的NMOS/SOS驱动器,第六届全国半导体集成电路和硅材料学术会议论文集,1989, pp216-217.

19. 刘忠立等,用于通信卫星上的CMOS/SOS集成电路, 抗核加固,1990, No.3.

20. 刘荣寰,刘忠立等,加固的CMOS/SOS集成电路抗γ瞬态辐射的最新结果,抗核加固,1990, No.3.

21. 刘忠立等,多晶硅掺杂方式对MOS电容器电离辐射特性的影响,抗核加固技术研究,1992年部分成果集,国防预研抗辐射加固项目办公室编,1992, pp 130-132.

22. 和致经,刘忠立等,SOS 结构条形栅MOS管岛边效应的加固技术,第五届全国抗辐射电子学学术会议,1993,pp 72-75.

23. 刘忠立,MOS电容器中电离辐射产生的界面态同SiO2内被陷阱俘获的空穴电荷之间的关系, 第五届全国抗辐射电子学学术会议,1993, pp69-71.

24. 刘忠立,军用CMOS/ SOS的可靠性及发展动态,军用电子元器件可靠性论文选,国防科工委军用电子元器件可靠性专业组编,1994, pp32-36.

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